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150A Evのリレーは陶磁器を金属で処理した
| 起源の場所 | フーナン、中国 |
|---|---|
| ブランド名 | Antaeus |
| 証明 | / |
| モデル番号 | AD-M016 |
| 最小注文数量 | 交渉 |
| 価格 | negotiable |
| パッケージの詳細 | 内部の真空パックの外のカートン。 |
| 受渡し時間 | 15-45日 |
| 支払条件 | T/Tか交渉 |
| 供給の能力 | 完全な供給 |
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x商品の詳細
| 製品名 | 陶磁器金属で処理されたアルミナ | 材料 | アルミナ（酸化アルミニウム、Al2O3） |
|---|---|---|---|
| 絶縁抵抗 | 1000M Ω （1000VDC） | 絶縁耐力 | 3000VAC 1分 |
| 働く温度 | -40℃-125℃ | 操作時間を | ≤30ms |
| リリース時間 | ≤10ms | 機能衝撃抵抗 | 196m/s ² （20Gの上の） |
| 有害な衝撃抵抗 | 490m/s ² （50Gの上の） | 湿気 | 5~85%RH |
| Virbrationの抵抗 | 10-200HZの49m/s ² | ||
| ハイライト | 150Aリレーによって金属で処理される陶磁器の絶縁体,Al2O3は陶磁器の絶縁体を金属で処理した,150Aリレー メタル・セラミック合成物 |
||
製品の説明
金属で処理されたアルミナの製陶術150A EVのリレー陶磁器/陶磁器の接触器
1. 記述:
金属で処理されたアルミナの製陶術150aのevのリレー陶磁器/陶磁器の接触器は高純粋な強くされたアルミナの陶磁器の粉から成り、プロセスまたは注入鋳造物を形作る高度の乾燥した圧力によって形作られる陶磁器のニッケル メッキである。そしてすべては異なった設計によってカスタマイズされる。
純粋なニッケルのニッケル メッキ（電気分解のニッケル メッキ）のために、部品は電気接触ならない。これのために、個々のガルバニック棚は造られなければならない。層は強磁性である。NIの層の特性は腐食および摩耗から金属部品を保護する。光沢度の高い層、またマットの表面は適切な組合せによって作り出すことができる。
- ガルバニック ニッケル メッキの利点:
- よい腐食防止
- solderable
- 防蝕
- 装飾的な一見
2. 特徴の利点:
1) 高い伸縮性の係数
2) 高い耐圧強度。
3) 反腐食
4) 摩耗抵抗
5) 耐衝撃性
6) 高精度
7) 安定性が高い
8) よい高度の陶磁器材料
9) 高い溶接の密封の性能
10) 高い硬度および高密度
11) 低い熱伝導性
12) 化学inertness
13) よい耐久性
14) 高いひびの靭性
15) よい絶縁材の性能
3. 物質的な特徴/特性:
| 色 | 白いですかアイボリー | 白いですかアイボリー | 白いですかアイボリー | |
| 密度 | g/cm 3 | 3.82 | 3.9 | 3.92 |
| 硬度 | HRA | 83 | 85 | 85 |
| Flexural強さ | Mpa （psi*10 3） | 375 | 386 | 381 |
4. 技術的な変数:
| 製陶術の技術的な変数 | ||||||||
| 項目 | テスト条件 | 単位か記号 | 99% AL2O3 | 95% AL2O3 | 90% AL2O3 | ジルコニア | ステアタイト | 炭化ケイ素 |
| 体積密度 | -- | g/cm3 | ≥3.70 | ≥3.62 | ≥3.40 | ≥5.90 | ≥2.60 | ≥3.08 |
| 堅さ | -- | Pa·mの³ /s | ≤1.0×10-11 | ≤1.0×10-11 | ≤1.0×10-11 | - | - | - |
| 液体の透磁率 | -- | -- | パス | パス | パス | パス | - | |
| Flexural強さ | - | MPa | ≥300 | ≥280 | ≥230 | ≥1100 | ≥120 | ≥400 |
| 弾性率 | - | GPa | - | ≥280 | ≥250 | ≥220 | - | 400 |
| ポアソン比率 | - | - | - | 0.20~0.25 | 0.20~0.25 | - | - | - |
| 熱衝撃の抵抗 | 800℃ （室温）周期:10回 | パス | パス | パス | - | - | - | |
| 線形拡張の係数 | 20℃~100℃ | ×10-6 K-1 | - | - | - | ≤8 | - | |
| 20℃~500℃ | ×10-6 K-1 | 6.5~7.5 | 6.5~7.5 | 6.5~7.5 | 6.5~11.2 | - | - | |
| 20℃~800℃ | ×10-6 K-1 | 6.5~8.0 | 6.5~8.0 | 6.3~7.3 | - | 4 | ||
| 20℃~1200℃ | ×10-6 K-1 | - | 7.0~8.5 | - | - | - | - | |
| 熱伝導性の係数 | 20℃ | を使って（m·k） | - | - | - | - | - | 90~110 |
| 1000℃ | ||||||||
| 比誘電率 | 1MHz 20℃ | - | 9.0~10.5 | 9.0~10 | 9.0~10 | - | ≤7.5 | - |
| 1MHz 50℃ | - | - | 9.0~10 | - | - | - | - | |
| 10GHz 20℃ | - | 9.0~10.5 | 9.0~10 | 9.0~10 | - | - | - | |
| 容積抵抗 | 100℃ | Ω·cm | ≥1.0×1013 | ≥1.0×1013 | ≥1.0×1013 | - | ≥1.0×1012 | - |
| 300℃ | ≥1.0×1013 | ≥1.0×1010 | ≥1.0×1013 | - | - | - | ||
| 500℃ | ≥1.0×109 | ≥1.0×108 | -- | - | - | - | ||
| 分裂的な強さ | D.C | kV/mm | ≥17 | ≥15 | ≥15 | - | ≥20 | - |
| 化学耐久性 | 1:9HCl | mg/c㎡ | ≤0.7 | ≤7.0 | - | - | - | - |
| 10%NaOH | mg/c㎡ | ≤0.1 | ≤0.2 | - | -- | - | - | |
| 結晶粒度 | - | μm | - | 3~12 | - | - | - | - |
5. プロセス フロー:
作り出すこと---粒状になること---形成---焼結---粉砕---印刷---ニッケル メッキ---Assembing---ろう付け---点検---パッキング
6. 適用分野:
広く新しいエネルギー車、充満山、太陽熱発電、エネルギー蓄積および力の貯蔵システム、電気自動車のパワー系統に等適用しなさい。
7.生産設備:機械を形作るPrillingタワー高温焼結炉
8. 探知装置:
電気性能のテスター、フィルム厚さの検光子、Granulometerのヘリウムの質量分析計の漏出探知器、普遍的な引き力のメートル
9. 注:参照のためのだけ情報の上で照会があるとき私達と自由に詳細については連絡すれば!